AI芯片热密度激增催生材料革新,锌基复合材料突破散热瓶颈

日期:2025-08-01 03:11    来源:新润丰高新材料


 

3D封装与算力跃升下,热管理材料成为芯片可靠性的关键阈值

 

文/半导体材料观察员

(2025年6月27日,广东新润丰锌业)随着台积电2nm制程量产及Chiplet技术普及,AI芯片单位面积热密度呈指数级增长。行业数据显示,2025年旗舰手机SoC峰值功耗已突破18W(较2022年提升80%),而散热结构厚度空间仍被压缩在0.35mm以内。

 

一、热失控危机的技术根源

当前芯片散热面临三重物理极限:

1. 导热材料各向异性瓶颈

石墨烯膜X/Y轴导热系数达1500W/(m·K),但Z轴导热系数不足20W/(m·K),导致垂直传热效率衰减;

2. 相变散热效率天花板

VC均热板在0.3mm厚度时热阻>0.15℃/W,相变工质循环速率受限毛细结构设计;

3. 界面接触热阻累积效应

芯片-TIM-封装-TIM-散热器的多层界面结构,使总热阻增加40%以上。

 

二、锌基复合材料的突破路径

通过材料基因工程+微纳结构设计双轨创新:

[金属基] 铜/铝 → [碳基] 石墨烯 → [复合体系] 锌基矩阵

核心技术创新点:

1. 梯度化锌合金骨架(实验验证)

Zn-Al-Mg-Si四元体系通过原子级成分梯度设计,实现X/Y向 (实测值) 320W/(m·K)、Z向 (实测值) 105W/(m·K)的立体导热网络,较传统合金Z向效率提升300%;

2. 自支撑微腔结构(专利技术)

飞秒激光构建30μm蜂窝状微腔,内填相变材料(熔点45℃),热响应速度实验室实测0.75秒,相变循环寿命>10万次;

3. 原子层防护层(量产工艺)

2nm级Al₂O₃/TiN复合屏障经JEDEC标准测试(1000h/85℃/85%RH),腐蚀速率≤0.003mm/年。

 

实验对比数据:

材料类型 厚度(mm) 15W热源温差(℃) 热阻(℃/W)

传统VC均热板 0.30 21.3 0.142

锌基复合材料 0.25 15.0 0.100

 

三、与芯片工艺的耦合验证

锌基材料正向产业链上游延伸:

• 先进封装:Zn-Sn-Bi微焊料(熔点189℃)适配3nm芯片0.1mm凸点间距,剪切强度达45MPa;

• 晶圆级散热:氧化锌(ZnO)TIM材料在台积电CoWoS封装中实测热阻<0.05cm²·℃/W;

• 光电融合:ZnO透明电极(可见光透过率>85%)应用于屏下传感器散热层,温升降低12℃。

 

四、产业化落地关键指标

据Global Market Insights数据,2024-2030年先进散热材料市场CAGR为31.2%,锌基材料渗透率将从3.8%升至17.5%。产业化里程碑:

• 2025Q3:0.25mm锌基均热板量产(良率≥92%);

• 2026Q1:晶圆级TIM通过AEC-Q102车规认证;

• 2027年:锌基微焊料导入2.5D封装产线。